En el experimento, los investigadores utilizaron plasma de nitrógeno y de oxígeno para incrementar la fotoelectroactividad del material en la reacción de desprendimiento de hidrógeno (imagen: Triselenuro de antimonio/Voutsas G.P., Papazogló A.G., Rentzeperis P.J/Wikipedia)
Es el resultado de un experimento realizado en colaboración entre dos centros de investigación que cuentan con el apoyo de la FAPESP en Brasil, y modifica este material para su utilización en la división de la molécula de agua con energía solar
Es el resultado de un experimento realizado en colaboración entre dos centros de investigación que cuentan con el apoyo de la FAPESP en Brasil, y modifica este material para su utilización en la división de la molécula de agua con energía solar
En el experimento, los investigadores utilizaron plasma de nitrógeno y de oxígeno para incrementar la fotoelectroactividad del material en la reacción de desprendimiento de hidrógeno (imagen: Triselenuro de antimonio/Voutsas G.P., Papazogló A.G., Rentzeperis P.J/Wikipedia)
Agência FAPESP* – En el marco de una investigación realizada en Brasil, a cargo del Centro de Desarrollo de Materiales Funcionales (CDMF) y el Centro de Innovación en Nuevas Energías (CINE), se describió un abordaje innovador de tratamiento con plasma para películas de triselenuro de antimonio que volvió a su superficie hidrofílica, que es normalmente hidrofóbica, la propiedad física de una molécula que aparentemente es repelida por el agua.
Este material posee propiedades que lo acreditan para su utilización como fotocátodo en la generación de hidrógeno mediante el método de división de la molécula de agua con energía solar. Pero la hidrofobia de la superficie del triselenuro de antimonio perjudica su rendimiento en la célula fotoelectroquímica, disminuyendo su capacidad de transformar la energía lumínica en energía química. La obtención de hidrógeno con energía solar es importante, pues este gas es un fuerte candidato para la producción de energía eléctrica en el futuro, incluso para alimentar vehículos.
El CDMF es un Centro de Investigación, Innovación y Difusión (CEPID) de la FAPESP con sede en la Universidad Federal de São Carlos (UFSCar), y el CINE es un Centro de Investigaciones en Ingeniería (CPE) apoyado por la FAPESP y la compañía Shell.
En el experimento, los investigadores utilizaron plasma de nitrógeno y de oxígeno para aumentar la mojabilidad (la capacidad de un líquido de mantenerse en contacto con una superficie) del material y, de esta forma, aumentar su fotoelectroactividad en la reacción de desprendimiento de hidrógeno. La investigación aporta así una nueva estrategia posible para mejorar la mojabilidad de los semiconductores.
Este estudio aparece detallado en el artículo intitulado Plasma treatment of electrodeposited Sb2Se3 thin films for improvement of solar-driven hydrogen evolution reaction, publicado en el periódico científico Chemical Engineering Journal.
*Con información de la Asesoría de Comunicación del CDMF.
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